日本化学機械製造の環境設備機器

マイクロ波を使用すると、通常の外部加熱の1/10～1/1000の時間で、高収率に、選択性の高い反応が進行することが、多く報告されております。また、無触媒で高効率に進行するマイクロ波合成反応なども報告されており、クリーンで省エネルギー、環境にも有利な点がマイクロ波には多数あります。

本装置は、マイクロ波による誘電加熱原理を利用した装置です。対象液を、供給ポンプによって、照射器内に組み込んだセラミック製照射管内に供給し、マイクロ波発振器から発振されるマイクロ波をセラミック管を通し内液に照射することにより、連続的に加熱を行なうことができます。また、本装置は耐圧構造で、圧力制御弁によって加圧状態に保持するため、高温・高圧処理(3.0MPa・250℃)が可能です。さらに、照射管内には撹拌機を設けることも可能で、ムラのない均一加熱が実現できます。

1. 耐熱・耐圧・耐薬品性を有する低誘電率セラミックチューブを採用。
2. 連続的に高温・高圧処理が出来る。
3. 連続処理装置、バッチ処理装置とも製作可能。
4. 照射部セラミックチューブ内では、照射ムラ解消。
5. 高濃度・高粘度スラリーにも対応できる。
6. 沈降性のある固形分を含んだ試料にも対応できる。
7. 短時間に昇温できる。